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電解槽、使用該電解槽的蝕刻液再生設(shè)備及再生方法

編輯:冶金材料設(shè)備網(wǎng)
發(fā)布時間:2014-08-11

  【申請?zhí)枴?/span>

 CN201410001343.X

 【申請日】

 2014-01-02

 【公開號】

 CN103757664A

 【公開日】

 2014-04-30

 【申請人】

 陶克(蘇州)機械設(shè)備有限公司

 【地址】

 215022 江蘇省蘇州市展業(yè)路8號

 【發(fā)明人】

 耐迪·薩多克

 【專利代理機構(gòu)】

 南京蘇科專利代理有限責(zé)任公司 32102

 【代理人】

 陸明耀;姚姣陽

 【國省代碼】

 32

 【摘要】

 本發(fā)明揭示了一種可以再生酸性蝕刻液以及回收銅的設(shè)備和方法,包括相互連接的反應(yīng)器和電解槽,所述反應(yīng)器包括一個預(yù)溢流室及第一、第二、第三溢流室,所述電解槽包括A隔間和B隔間,所述A隔間包括用于產(chǎn)生反應(yīng)氣體O2的第一陽極室;用于回收銅的第一陰極室,以及置于所述第一陽極室和和第一陰極室之間的中間室;所述B隔間包括用于產(chǎn)生反應(yīng)氣體O2和加速劑ClO3-的第二陽極室,以及用于回收銅的第二陰極室;本發(fā)明的突出效果為:電解槽結(jié)構(gòu)簡單、緊湊,能很好地為再生過程提供需要的加速劑和反應(yīng)氣體;整個再生過程不需要添加任何再生用的添加劑;提高了蝕刻過程的穩(wěn)定性和靈活性,將大大改善蝕刻工藝。

 【主權(quán)項】

 一種電解槽,其特征在于:包括設(shè)有電?電滲析系統(tǒng)的A隔間和內(nèi)設(shè)有電解系統(tǒng)的B隔間,所述A隔間包括用于產(chǎn)生反應(yīng)氣體O||sub||2||/sub||的第一陽極室;用于回收銅的第一陰極室,以及置于所述第一陽極室和和第一陰極室之間的中間室;所述B隔間包括用于產(chǎn)生反應(yīng)氣體O||sub||2||/sub||和加速劑ClO||sub||3||/sub||||sup||?||/sup||的第二陽極室,以及用于回收銅的第二陰極室。

 【頁數(shù)】

 14

 【主分類號】

 C25C7/00

 【專利分類號】

 C25C7/00;C23F1/46;C25C1/12

     法律狀態(tài)檢索

申請(專利)號

 201410001343.X

授權(quán)公告號

 

法律狀態(tài)公告日

 2014.06.04

法律狀態(tài)類型 

 實質(zhì)審查的生效

 

 

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