【申請(qǐng)?zhí)枴?
CN201410093321.0
【申請(qǐng)日】
2014-03-13
【公開號(hào)】
CN104047025A
【公開日】
2014-09-17
【申請(qǐng)人】
美鋁公司
【地址】
美國(guó)賓夕法尼亞州
【共同申請(qǐng)人】
【發(fā)明人】
劉興華;小D·A·韋勞奇;F·E·菲爾普斯;J·M·戴尼斯;J·克爾克霍夫;R·A·迪米利亞
【國(guó)際申請(qǐng)】
【國(guó)際公布】
【進(jìn)入國(guó)家日期】
【專利代理機(jī)構(gòu)】
中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
【代理人】
林振波
【分案原申請(qǐng)?zhí)枴?
【國(guó)省代碼】
US
【摘要】
提供了一種系統(tǒng),包括：被設(shè)置用于保留熔融電解液的電解池,所述電解液包括至少一種電解液成分,所述電解池包括底部和基本上由所述至少一種電解液成分構(gòu)成的側(cè)壁；以及進(jìn)料系統(tǒng),被設(shè)置用于向熔融電解液提供包括所述至少一種電解液成分的進(jìn)料,以使所述至少一種電解液成分處于約2%的飽和度以內(nèi),其中,側(cè)壁通過進(jìn)料而在熔融電解液內(nèi)保持穩(wěn)定。
【主權(quán)項(xiàng)】
一種系統(tǒng),包括：被設(shè)置用于保留熔融電解液的電解池,所述電解液包括至少一種電解液成分,所述電解池包括：底部,和基本上由所述至少一種電解液成分構(gòu)成的側(cè)壁；以及進(jìn)料系統(tǒng),被設(shè)置用于向熔融電解液提供包括所述至少一種電解液成分的進(jìn)料,以使所述至少一種電解液成分處于約2%的飽和度以內(nèi),其中,側(cè)壁通過所述進(jìn)料而在熔融電解液內(nèi)保持穩(wěn)定。
【頁數(shù)】
26
【主分類號(hào)】
C25C3/00
【專利分類號(hào)】
C25C3/00;C25C7/00;C25C3/06;C25C3/08
法律狀態(tài)檢索
申請(qǐng)（專利）號(hào)
201410093321.0
授權(quán)公告號(hào)
法律狀態(tài)公告日
2014.10.22
法律狀態(tài)類型
實(shí)質(zhì)審查的生效
實(shí)質(zhì)審查的生效
IPC(主分類):C25C 3/00
申請(qǐng)日:20140313
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