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【申請?zhí)枴?/span> |
CN201410093321.0 |
【申請日】 |
2014-03-13 |
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【公開號】 |
CN104047025A |
【公開日】 |
2014-09-17 |
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【申請人】 |
美鋁公司 |
【地址】 |
美國賓夕法尼亞州 |
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【共同申請人】 |
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【發(fā)明人】 |
劉興華;小D·A·韋勞奇;F·E·菲爾普斯;J·M·戴尼斯;J·克爾克霍夫;R·A·迪米利亞 |
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【國際申請】 |
【國際公布】 |
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【進(jìn)入國家日期】 |
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【專利代理機(jī)構(gòu)】 |
中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 |
【代理人】 |
林振波 |
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【分案原申請?zhí)枴?/span> |
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【國省代碼】 |
US |
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【摘要】 |
提供了一種系統(tǒng),包括:被設(shè)置用于保留熔融電解液的電解池,所述電解液包括至少一種電解液成分,所述電解池包括底部和基本上由所述至少一種電解液成分構(gòu)成的側(cè)壁;以及進(jìn)料系統(tǒng),被設(shè)置用于向熔融電解液提供包括所述至少一種電解液成分的進(jìn)料,以使所述至少一種電解液成分處于約2%的飽和度以內(nèi),其中,側(cè)壁通過進(jìn)料而在熔融電解液內(nèi)保持穩(wěn)定。 |
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【主權(quán)項】 |
一種系統(tǒng),包括:被設(shè)置用于保留熔融電解液的電解池,所述電解液包括至少一種電解液成分,所述電解池包括:底部,和基本上由所述至少一種電解液成分構(gòu)成的側(cè)壁;以及進(jìn)料系統(tǒng),被設(shè)置用于向熔融電解液提供包括所述至少一種電解液成分的進(jìn)料,以使所述至少一種電解液成分處于約2%的飽和度以內(nèi),其中,側(cè)壁通過所述進(jìn)料而在熔融電解液內(nèi)保持穩(wěn)定。 |
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【頁數(shù)】 |
26 |
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【主分類號】 |
C25C3/00 |
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【專利分類號】 |
C25C3/00;C25C7/00;C25C3/06;C25C3/08 |
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法律狀態(tài)檢索
申請(專利)號 |
201410093321.0 |
授權(quán)公告號 |
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法律狀態(tài)公告日 |
2014.10.22 |
法律狀態(tài)類型 |
實質(zhì)審查的生效 |
實質(zhì)審查的生效 |
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